一．光刻胶的光散射现象

二．光刻胶内部的光反射现象

第二种情况是晶圆表面不平坦或者表面有着很多的台阶（各种形貌）。这些台阶的侧面会将入射光线以一定的角度反射至光刻胶里，从而引起图形分辨率降低。其中一个特别的问题就是台阶处发生光干涉现象从而引起阶梯处图形出现“凹口”。

一．驻波效应

在光刻中理想的曝光状态是辐射光波与晶圆表面成90度角直接照射。然而，垂直照射会引起另外一个问题——驻波。当光线从晶圆表面反射回光刻胶时，反射光线会与人射光线发生相长干涉或相消干涉现象。显影后，形成波纹侧墙和分辨率的损失。一般在高反射衬底，以及曝光的参数不适合这些情况下会加剧驻波效应。当然驻波效应可以得到一定的抑制。其抑制方法会在下篇简单介绍。

驻波效应 （a）曝光时，（b）显影后

以上就是一小部分光刻中会出现的现象以及问题，若有表述不正确请大家及时指出，作者会第一时间予以纠正。