南智光电 2025 上半年度基于南智光电薄膜铌酸锂PDK2.0的晶圆级薄膜铌酸锂(TFLN) 多项目晶圆(MPW)流片排期现已正式发布，诚邀各位合作伙伴一同开启 TFLN 技术新篇章!

流片时间安排

除了支持多项目晶圆(MPW)，我们还支持全掩膜(Fu11 Mask)、EBL 工艺等多种流片模式，可以按照客户需求进行定制化工艺开发，满足不同的流片需求。

PDK 2.0核心优势助力客户研发

依托业界领先的设计工具--Luceda Photonics的IPKISS和逍遥科技的PIC Studio，南智光电的薄膜铌酸锂工艺平台可提供标准化设计工具库，助力光子芯片高效研发。PDK2.0版本在工艺优化、器件升级、可调参数库扩展等方面持续突破，大幅提升了标准化代工流片能力，为客户提供更稳定、高效的制造支持。

服务支持与联系方式

南智光电致力于提供高精度、高一致性的光子芯片加工服务，支持从设计验证到制造流片的全流程解决方案。即刻联系我们，抢占2025年上半年流片名额!

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